Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
Material | EL SIO2>99.99% |
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Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Material | 99,99% |
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Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |