| Tipo | Placa clara del cuarzo | 
|---|---|
| Uso | Semiconductor, óptico | 
| Grueso | 0.5-100m m | 
| Forma | Cuadrado | 
| Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte | 
| Tipo | Placa clara del cuarzo | 
|---|---|
| uso | Semiconductor, óptico | 
| Grueso | 0.5-100m m | 
| Forma | Cuadrado | 
| Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte | 
| Material | EL SIO2>99.99% | 
|---|---|
| Densidad | 2,2 (g/cm3) | 
| Transmitencia ligera | >el 92% | 
| Dureza | Morse 6,5 | 
| Temperatura de trabajo | 1100℃ | 
| Material | 99,99% | 
|---|---|
| Transmitencia ligera | el 92% | 
| Densidad | 2.2g/cm3 | 
| Temparature de trabajo | 1100℃ | 
| Dureza | Morse 6,5 |