Material | 99,99% |
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Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Material | 99,99% |
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Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
Material | 99,99% |
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Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
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Material | Sio2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Material | 99,99% |
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Transmitencia ligera | 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Material | 99,99% |
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Transmitencia ligera | 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre | Plato modificado para requisitos particulares de alta calidad fundido del vidrio de cuarzo de la pla |
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Escribe | Placa clara del cuarzo |
Solicitud | Semiconductor, óptico |
espesor | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Nombre de producto | placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2>99,99% |
Density | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6.5 |
Temperatura de trabajo | 1150℃ |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |