Nombre de producto | Vidrio de vista |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre del producto | barra de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Transimittance ligero | el 92% |
dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
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Material | Sio2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre del producto | barra de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Transimittance ligero | el 92% |
dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.999% |
Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Tipo de producto | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo |
Material | SiO2 |
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Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |