| Nombre de producto | Vidrio de vista |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Nombre del producto | barra de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| dureza | Morse 6,5 |
| Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Nombre del producto | barra de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| dureza | Morse 6,5 |
| Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.999% |
| Densidad | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| El material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Tipo de producto | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Uso | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |