Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforando, el cortar, puliendo |
Escribe | Placa clara del cuarzo |
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Solicitud | Semiconductor, óptico |
espesor | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Servicio de Procesamiento | Doblez, soldando con autógena, perforando, el cortar, puliendo |
Escribe | Placa de cuarzo transparente |
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Solicitud | Semiconductores, ópticos |
Espesor | 0,5-100 mm |
Forma | Cuadrado |
Servicio de Procesamiento | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Uso | Semiconductores, ópticos |
Grueso | 0,5-100 mm |
forma | cuadrado |
Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |