Nombre de producto | Botella reactiva de laboratorio |
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Material | EL SIO2>99.9% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica, 150 veces que el acero inoxidable |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Solicitud | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Punzonado, corte, pulido |
Material | SIO2>99,9% |
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Densidad | 2,2 g/cm3 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Uso | Laboratorio, Bioligy, Médico, Químico |
Punto de fusión | 1750℃ |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Uso | Semiconductores, ópticos |
Grueso | 0,5-100 mm |
forma | cuadrado |
Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
Material | SiO2 |
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Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
Material | SiO2 |
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Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
Material | SiO2 |
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densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
Material | SiO2 |
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densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
Material | SiO2 |
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densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforando, el cortar, puliendo |