Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Solicitud | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Punzonado, corte, pulido |
Material | EL SIO2>99.99% |
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OD | 3-300m m |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
dureza | Mose 6,5 |
SiO2 | 99,99% |
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Temparature de trabajo | 1200℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biología, médica |
Color | Transparente |