| Tipo | Placa clara del cuarzo | 
|---|---|
| Uso | Semiconductor, óptico | 
| Grueso | 0.5-100m m | 
| Forma | Cuadrado | 
| Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo | 
| Material | EL SIO2>99.99% | 
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 | 
| Dureza | Morse 6,5 | 
| Temparature de trabajo | 1150℃ | 
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |