Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2 |
Temparature de trabajo | 1200℃ |
Punto del derretimiento | 1850℃ |
Forma | Cuadrado/redondo/cualquier forma |
Nombre | Tubo de cristal de cuarzo |
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Característica | Alta transmitencia ligera |
Uso | Instrumento óptico |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Nombre de producto | Tubo de ensayo del cuarzo |
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Material | Cuarzo fundido |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Punto del derretimiento | 1750℃ |
Material | 99,99% |
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Transmitencia ligera | 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Tipo de producto | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |