Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo |
material | EL SIO2>99.99% |
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densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |