Material | EL SIO2>99.99% |
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Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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SIO2 | 99,99% |
Temparature de trabajo | 1200℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biología, médica |
Tipo de producto | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Tipo de producto | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Material | EL SIO2>99.99% |
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Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
material | EL SIO2>99.99% |
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densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1200℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |