Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Luz UV, óptica |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Solicitud | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Punzonado, corte, pulido |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.999% |
Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.999% |
Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitancia de luz | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitancia de luz | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitancia de luz | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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SiO2 | 99,99% |
Temparature de trabajo | 1200℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biología, médica |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitancia de luz | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |