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Alta pureza personalizada 99,99% SiO2 Placa de vidrio de cuarzo Resistente al calor a 1150 °C con alta transmitancia de luz > 92% para semiconductores de laboratorio
Discos de vidrio de cuarzo redondos personalizados con 99,99 % de pureza de SiO2, >92 % de transmitancia de luz y temperatura de trabajo de 1150 ℃. Disponible en 1-800 mm de diámetro y 0,2-100 mm de espesor. Resistente al calor, a la corrosión y personalizable para aplicaciones industriales, de laboratorio y de semiconductores.
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Placa de sílice fundida de alta pureza 99,99% con punto de fusión de 1732 °C y temperatura de trabajo de 1100 °C para ventana de cuarzo óptico
Placas de sílice fundida de alta pureza con 99,99 % de SiO2, >92 % de transmitancia de luz, punto de fusión de 1732 ℃ y temperatura de trabajo de 1150 ℃. Tamaños personalizados (1-800 mm de diámetro, 0,2-100 mm de espesor) con opciones de punzonado/corte. Estándares JGS, resistentes a la corrosión y duraderos a altas temperaturas para aplicaciones ópticas, láser y de semiconductores.
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Placa de vidrio de cuarzo de alta pureza personalizada 99.99% SiO2 con alta transmitancia UV >92% y resistencia a altas temperaturas 1150°C para ventanas ópticas
Láminas de vidrio de cuarzo personalizadas con 99,99 % de pureza de SiO2, >92 % de transmitancia de luz y temperatura de trabajo de 1150 ℃. Disponible en espesores de 0,5 a 100 mm con personalización completa que incluye corte, doblado y soldadura para aplicaciones ópticas.
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Placa de cristal de cuarzo transparente UV, hoja de silicio fundida con 99,99% de SiO2 y tamaño personalizado
Hoja de vidrio de cuarzo de sílice fundida de alta pureza con 99,99 % de SiO2, >92 % de transmitancia de luz, transparente a los rayos UV, espesor de 0,5 a 100 mm, temperatura de trabajo de 1150 ℃. Tamaños personalizados, estándares JGS, resistente a la corrosión, resistente a altas temperaturas, fuerte aislamiento eléctrico.
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Placa de cuarzo perforada de precisión para semiconductores JGS1 JGS2 JGS3
Placas de cuarzo perforadas mecanizadas con precisión en grados JGS1/JGS2/JGS3 para aplicaciones de semiconductores. Presenta una pureza de SiO₂ del 99,99 %, una temperatura de trabajo de 1100 ℃ y servicios personalizados de punzonado/corte. Disponible en sílice fundida transparente con muestras gratuitas y MOQ bajo.
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oblea de cuarzo fundido JGS1 JGS2 JGS3 transparente resistente a altas temperaturas para la fabricación de semiconductores
High Temperature Resistant JGS1 JGS2 JGS3 Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Semiconductor Manufacturing High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates ...
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Fabricación de semiconductores de placas de cristal de cuarzo ultrafinas (0,5 mm ∼3 mm)
Semiconductor Manufacturing Ultra Thin (0.5mm–3mm) Quartz Glass Plate Product Overview High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan ...
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Venta al por mayor personalizada de forma redonda libre de impurezas Quarzo de la hoja de pulido ventana de cuarzo
Venta al por mayor de láminas de pulido de cuarzo de forma redonda, sin impurezas, personalizadas, con un contenido de SiO₂ del 99,99 %, densidad de 2,2 g/cm³, dureza de 6,6, temperatura de trabajo de 1100 ℃ y punto de fusión de 1732 ℃. Admite procesamiento de punzonado/corte y muestras gratuitas para aplicaciones de semiconductores.
