| Escribe | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductores, ópticos |
| Espesor | 0,5-100 mm |
| Forma | Cuadrado |
| Servicio de Procesamiento | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| El material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |