Escribe | Placa de cuarzo transparente |
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Solicitud | Semiconductores, ópticos |
Espesor | 0,5-100 mm |
Forma | Cuadrado |
Servicio de Procesamiento | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
Material | SiO2 |
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Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |