Name | High Temperature Quartz Glass Plate |
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Type | Clear Quartz Plate |
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Material | SiO2 |
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Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencias |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia al ácido | 30 veces más que la cerámica |
Dureza | Morse 6.5 |