Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Uso | Semiconductores, ópticos |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
nombre | Reactor de vidrio de cuarzo |
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El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100°C |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Placa del cuarzo fundido |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |