Material | EL SIO2>99.999% |
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Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado/ronda |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
El tipo | Tubo de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | circular |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100°C |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Material | EL SIO2>99.999% |
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Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Uso | Semiconductores, ópticos |
Grueso | 0,5-100 mm |
forma | cuadrado |
Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
El tipo | Tubo de ensayo de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
El tipo | Tubo de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |