Material | silicio fundido |
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Temperatura de trabajo | 1250℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Uso | Prueba de laboratorio |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
---|---|
SIO2 | 99,99% |
Temparature de trabajo | 1200℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biología, médica |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
---|---|
Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
material | silicio fundido |
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Temperatura de trabajo | 1250℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
uso | Prueba de laboratorio |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
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Material | SIO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
---|---|
Material | 99,99% |
Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Nombre de producto | placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2>99,99% |
densidad | 2,2 g/cm3 |
Dureza | Morse 6.5 |
Temperatura de trabajo | 1150℃ |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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SiO2 | 99,99% |
Temparature de trabajo | 1200℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biología, médica |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |