Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | Sio2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Nombre del cuarzo | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Nombre del producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Uso | Semiconductores, ópticos |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Punzonado, Corte |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
El tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |