Nombre de producto | placa de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Nombre de Prodcut | Placa de cristal de cuarzo |
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Transmitencia ligera | >el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Nombre de producto | Frasco de cristal de cuarzo |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
dureza | Morse 6,5 |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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Material | El Sio2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
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Material | El Sio2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Acid tolerance | 30 times than ceramics |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |