| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
| El tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
| El tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Arco |
| Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
| El tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado/ronda |
| Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
| Material | Vidrio de cuarzo puro |
|---|---|
| Capacidad | 100-850ml |
| Uso | hogar/hoteles/restaurante |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Color | Transparente |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300m m |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300m m |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Mose 6,5 |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.999% |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Nombre | aislador de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.999% |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
