| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabajo | 1110℃ |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabajo | 1110℃ |
| Nombre de producto | Urna del cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabajo | 1110℃ |
| Nombre de producto | Botella reactiva de laboratorio |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.9% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica, 150 veces que el acero inoxidable |
| Punto del derretimiento | 1750℃ |
| Nombre de producto | Botella reactiva de laboratorio |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.9% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica, 150 veces que el acero inoxidable |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| uso | Luz UV, óptica |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
| El tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
