| Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencias |
|---|---|
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia al ácido | 30 veces más que la cerámica |
| Dureza | Morse 6.5 |
| material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Tamaño | Modificado para requisitos particulares |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
|---|---|
| SIO2 | 99,99% |
| Temparature de trabajo | 1200℃ |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biología, médica |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1150℃ |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Temparature de trabajo | 1200℃ |
| Punto del derretimiento | 1850℃ |
| Forma | Cuadrado/redondo/cualquier forma |
| Nombre | Tubo de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Característica | Alta transmitencia ligera |
| Uso | Instrumento óptico |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
