Material | SiO2 |
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Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1200℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |
Nombre de producto | Placa de cristal de perforación de cuarzo |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre de producto | Placa del cuarzo fundido |
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Material | SIO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Materiales | SiO2 |
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Junta | varón de 14mm/18m m |
Ángulo del tubo | 90 ° |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
color | transparente |
Nombre | Tubo de vidrio de cuarzo |
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Uso | Fuentes , Semiconductores |
Material | SIO2>99,99% |
Característica | Buen aislamiento eléctrico |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1200℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.999% |
Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |