Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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SiO2 | 99,99% |
Temparature de trabajo | 1200℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Uso | Laboratorio, biología, médica |
Material | EL SIO2>99.99% |
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OD | 3-300m m |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
dureza | Mose 6,5 |
Tipo de producto | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Material | EL SIO2>99.99% |
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Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Material | EL SIO2>99.99% |
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OD | 3-300m m |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
dureza | Mose 6,5 |
Nombre de producto | Tubo de ensayo del cuarzo |
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Material | Cuarzo fundido |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Punto del derretimiento | 1750℃ |
material | SiO2 |
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densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
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Material | Sio2 |
Dureza | Morse 6.5 |
Temperatura de trabajo | 1200℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |