Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.999% |
Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2>99,99% |
densidad | 2,2 g/cm3 |
Dureza | Morse 6.5 |
Temperatura de trabajo | 1150℃ |
Nombre de producto | placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2>99,99% |
Density | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6.5 |
Temperatura de trabajo | 1150℃ |
Type | Clear Quartz Plate |
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Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Tipo de producto | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
El tipo | portador de obleas de cuarzo |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
El tipo | Tubo de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | En forma semicircular |
Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
Nombre de producto | Vidrio de cuarzo perforado |
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Material | SiO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | Sio2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |