nombre | Reactor de vidrio de cuarzo |
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El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100°C |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Solicitud | Semiconductor, óptico |
Espesor | 0.5-100 mm |
Forma | Redondo |
Servicio de procesamiento | Golpes, cortando |