Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo |
Material | SIO2>99,99% |
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Densidad | 2,2 g/cm3 |
Transmitancia de luz | 92% |
Dureza | Morse 6.5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Material | SiO2 |
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Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |
Material | EL SIO2>99.99% |
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Densidad | 2.2g/cm3 |
Transimittance ligero | el 92% |
dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |