| Nombre del cuarzo | placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitencia ligera | 92% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nombre de Prodcut | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| SiO2 | 99,99% |
| Temparature de trabajo | 1200℃ |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biología, médica |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.999% |
| Densidad | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Uso | Semiconductores, ópticos |
| Grueso | 0,5-100 mm |
| forma | cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Uso | Semiconductores, ópticos |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.999% |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.999% |
| Densidad | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Uso | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
