JGS2 Ventana de cuarzo transparente de alta pureza UV de doble lado pulida de sílice fundida redonda para el reactor fotoquímico de laboratorio
Detalles del producto
| Pureza de materiales: | SiO2> 99.99% | Transmitancia de luz: | 92% |
|---|---|---|---|
| Densidad: | 2.2g/cm3 | Punto de reblandecimiento: | 1683 grados centígrados |
| Dureza: | Morse 6.5 | temperatura de trabajo: | 1100 grados Celsius |
| Resaltar |
Placa de cuarzo fundido con 99,99% SiO2,Hoja de vidrio de cuarzo con transmitancia de luz del 92% |
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Descripción del Producto
- Complejo industrial
- Maquinaria y metalurgia
- Equipos de impresión y teñido
- Instrumentos ópticos
- Visores de alta temperatura
- Industrias de agujeros de fuego
- Equipos de fuentes de luz eléctrica
- Instrumentos de laboratorio
- Aparatos químicos
| Contenido de SiO₂ | 99.9% |
| Densidad | 2.2 g/cm³ |
| Dureza (escala de Mohs) | 6.6 |
| Punto de fusión | 1732°C |
| Temperatura de trabajo | 1100°C |
| Temperatura máxima a corto plazo | 1450°C |
| Transmitancia de luz visible | Superior al 93% |
| Transmitancia en la región espectral UV | 80% |
| Punto de recocido | 1180°C |
| Punto de reblandecimiento | 1630°C |
| Punto de tensión | 1100°C |
| Tipo | JGS1 (ZS-1) | JGS2 (ZS-2) | JGS3 (HS) |
|---|---|---|---|
| Características espectrales | 180-2500nm | 200-2500nm | 260-3500nm |
| Transmitancia promedio | 90% | 85% | 85% |
| Clase de burbujas | 0 | 2 | 2 |
| Birrefringencia | 1-2 | 1-2 | 1-2 |
| Estructura de grano | 1 | 2 | 2 |
| Franja | 1-2 | 2 | 2 |
| Uniformidad | 1-2 | 2 | 2 |
| Fluorescencia | 1 | 2 | 2 |
| Rendimiento de radiación | No cambia de color | Ligeras decoloraciones | Cambia de color |
- Materia prima
- Corte de línea única
- Máquina de fresado y rectificado
- Rectificado grueso
- Rectificado fino
- Pulido
- Mecanizado CNC
- Proporcione sus requisitos o aplicación
- Cotizamos según sus requisitos o nuestras sugerencias
- El cliente confirma las muestras y realiza el depósito para el pedido formal
- Organizamos la producción
Aspectos destacados del producto
Placas de cuarzo de sílice fundida de alta pureza con 99,99 % SiO2, 92 % de transmitancia de luz, soporta una temperatura de trabajo de 1100 °C y un punto de reblandecimiento de 1683 °C. Tamaños, formas y especificaciones personalizados disponibles para aplicaciones industriales, ópticas y de alta temperatura.
El tanque ranurado microprocesador de la muestra de la hoja del vidrio de cuarzo del portador de la hoja de prueba del tanque de la muestra de XRD puede ser modificado para requisitos particulares
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