Resistente a altas temperaturas Sin burbujas SiO2>99,99% Tubo de vidrio de cuarzo claro para horno de difusión de semiconductores
Detalles del producto
| Pureza de materiales: | SiO2> 99.99% | Dureza: | Mose 6,5 |
|---|---|---|---|
| Transmitancia de luz: | > 92% | Temperatura de trabajo: | 1100℃ |
| Diámetro externo: | 1mm-1000mm | Densidad: | 2,2 (g/cm³) |
Descripción del Producto
| Contenido de SiO2 | 990,9% |
| Densidad | 2.2 g/cm3 |
| Dureza (escala de Moh) | 6.6 |
| Punto de fusión | 1732°C |
| Temperatura de trabajo | 1100°C |
| Temperatura máxima a corto plazo | 1450°C |
| Transmisibilidad de la luz visible | Más del 93% |
| Transmisibilidad espectral UV | El 80% |
| Punto de recocido | 1180°C |
| Punto de ablandamiento | 1630°C |
| Punto de tensión | 1100°C |
- Alta pureza: SiO2 > 99,99%
- Temperatura de funcionamiento: 1200°C; Temperatura de suavización: 1730°C
- Excelente estabilidad térmica
- Resistencia superior a ácidos y álcalis
- Alta transmisión óptica
- Excelentes propiedades de aislamiento eléctrico
- Proporcione sus requisitos o detalles de la solicitud
- Citaremos de acuerdo con sus requisitos o nuestras sugerencias
- El cliente confirma las muestras y pone el depósito para el pedido formal
- Nosotros organizamos la producción.
Aspectos destacados del producto
Tubo de cuarzo de alta pureza con SiO₂>99,99%, temperatura de trabajo 1100℃, transmitancia de luz >92%, excelente estabilidad térmica y resistencia a los ácidos. Tamaños personalizados disponibles desde 1 mm hasta 1000 mm de diámetro exterior.
El tanque ranurado microprocesador de la muestra de la hoja del vidrio de cuarzo del portador de la hoja de prueba del tanque de la muestra de XRD puede ser modificado para requisitos particulares
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