Material | EL SIO2>99.99% |
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Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Temperatura de trabajo | 1110℃ |
Nombre de producto | Urna del cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
Nombre del producto | Cristalería de laboratorio de ciencias |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia al ácido | 30 veces más que la cerámica |
Dureza | Morse 6.5 |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Cristalería de laboratorio experimental de ciencia de los reactores Iso9001 del cuarzo |
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Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Dureza | Morse 6,5 |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | SIO2 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
Tipo | Placa de cuarzo transparente |
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Aplicación | Semiconductor, óptico |
El grosor | 0.5 a 100 mm |
Forma de las piezas | Cuadrado |
Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |