Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforando, el cortar, puliendo |
Material | SIO2 |
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Común | varón de 14mm/18m m |
Ángulo del tubo | el 90° |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Color | Transparente |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |