| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300m m |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1200℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| OD | 3-300m m |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| dureza | Mose 6,5 |
| Material | EL SIO2>99.999% |
|---|---|
| Densidad | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal plana |
|---|---|
| Material | 99,99% |
| Transmitencia ligera | el 92% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Nombre de producto | Urna del cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Uso | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo |
| Nombre | tubo de vidrio de cuarzo |
|---|---|
| Palabra clave | tubo de cuarzo |
| Material | SIO2>99,99% |
| sobredosis | 3-300 mm |
| Transmitancia de luz | >92% |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
