| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Uso | Semiconductores, ópticos |
| Grueso | 0,5-100 mm |
| forma | cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Uso | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforando, el cortar, puliendo |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Uso | Semiconductores, ópticos |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| Nombre | Placa de vidrio da alta temperatura de cuarzo |
|---|---|
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
| Uso | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Nombre | Placa de vidrio da alta temperatura de cuarzo |
|---|---|
| El tipo | Placa de cuarzo transparente |
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Name | High Temperature Quartz Glass Plate |
|---|---|
| Type | Clear Quartz Plate |
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Nombre del producto | Cerámica de alúmina |
|---|---|
| Tipo | Parte de cerámica |
| Aplicación | Cerámica industrial |
| Moq | 1 por ciento |
| Forma | Modificado para requisitos particulares como dibujo |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Uso | Semiconductores, ópticos |
| Grueso | 0,5-100 mm |
| forma | cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Escribe | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductores, ópticos |
| Espesor | 0,5-100 mm |
| Forma | Cuadrado |
| Servicio de Procesamiento | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |