| Material | tubo del cuarzo fundido |
|---|---|
| Grueso | 0.5-100m m |
| Dureza | Morse 6,5 |
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparatur de trabajo | 1150℃ |
| Nombre de producto | Tubo de ensayo del cuarzo |
|---|---|
| Material | Cuarzo fundido |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Punto del derretimiento | 1750℃ |
| Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
|---|---|
| Material | SIO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Nombre de producto | El trabajar a máquina del vidrio de la precisión |
|---|---|
| Material | SiO2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| El material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductor, óptico |
| Espesor | 0.5-100 mm |
| Forma | Cuadrado |
| Servicio de procesamiento | Golpes, cortando |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Temparature de trabajo | 1200℃ |
| Punto del derretimiento | 1850℃ |
| forma | Cuadrado/redondo/cualquier forma |
| Grueso | 1mm-50m m |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |