| Shape | Round |
|---|---|
| Heat Resistance | Up to 500 degrees Fahrenheit |
| Size | 10 inches |
| Lead-free | Yes |
| Made in | China |
| Forma | Redondo |
|---|---|
| Resistencia al calor | Hasta 500 grados Fahrenheit |
| Tamaño | 10 pulgadas |
| Sin plomo | Sí |
| Hecho en | PORCELANA |
| Nombre de producto | Cilindro de cristal que trabaja a máquina del vidrio de la precisión |
|---|---|
| Material | Sio2 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1200℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | mezclados |
| Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
| Tipo | Tubo de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | circular |
| Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductor, óptico |
| Espesor | 0.5-100 mm |
| Forma | Paso |
| Servicio de procesamiento | Doblar, soldar, golpear, pulir |
| Escribe | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductores, ópticos |
| Espesor | 0,5-100 mm |
| Forma | Cuadrado |
| Servicio de Procesamiento | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| El material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |