| Material | SiO2 |
|---|---|
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Calidad superficial | 20/40 o 40/60 |
| Fuerza de Dieletric | los 250~400Kv/cm |
| Material | EL SIO2>99.9% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Uso | Laboratorio, Bioligy, médico, sustancia química |
| Punto del derretimiento | 1750℃ |
| Material | 99,99% |
|---|---|
| Transmitencia ligera | el 92% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Material | 99,99% |
|---|---|
| Transmitencia ligera | el 92% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Temperatura de trabajo | 1110℃ |
| material | SiO2 |
|---|---|
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
| Nombre de producto | Placa del cuarzo fundido |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1150℃ |
| Nombre de producto | Botella reactiva de laboratorio |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.9% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica, 150 veces que el acero inoxidable |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Punzonado, corte, pulido |