| Material | silicio fundido |
|---|---|
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Uso | Semiconductores, ópticos |
| Grueso | 0,5-100 mm |
| forma | cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |
| SiO2 | 99,99% |
|---|---|
| Temparature de trabajo | 1200℃ |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biología, médica |
| Color | Transparente |
| Nombre de producto | Cristalería de laboratorio experimental de ciencia de los reactores Iso9001 del cuarzo |
|---|---|
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Escribe | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductor, óptico |
| espesor | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Servicio de Procesamiento | Doblez, soldando con autógena, perforando, el cortar, puliendo |
| El tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |
| El tipo | placa del cuarzo |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Las demás partes del tejido de las piezas de acero |