| Material | SIO2>99,9% |
|---|---|
| Densidad | 2,2 g/cm3 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Uso | Laboratorio, Bioligy, Médico, Químico |
| Punto de fusión | 1750℃ |
| Material | SIO2>99,99% |
|---|---|
| Densidad | 2,2 g/cm3 |
| Dureza | Morse 6.5 |
| Punto del derretimiento | 1750-1850 ℃ |
| Temperatura de trabajo | 1110℃ |
| Material | EL SIO2>99.9% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Uso | Laboratorio, Bioligy, Médico, Químico |
| Punto del derretimiento | 1750℃ |
| Nombre del producto | Barra de cuarzo prensada en caliente |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| dureza | Morse 6,5 |
| Material | 99,99% |
|---|---|
| Transmitencia ligera | el 92% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
| Material | SiO2 |
|---|---|
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Transmitencia ULTRAVIOLETA | el 80% |
| Escribe | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductores, ópticos |
| Espesor | 0,5-100 mm |
| Forma | Cuadrado |
| Servicio de procesamiento | Doblado, Soldadura, Punzonado, Corte |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Uso | Semiconductores, ópticos |
| Grueso | 0,5-100 mm |
| forma | cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblado, soldadura, punzonado, corte, pulido |