| Nombre de producto | Tubo de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| OD | 3-300m m |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Nombre de producto | placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SIO2>99,99% |
| Density | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6.5 |
| Temperatura de trabajo | 1150℃ |
| nombre | Tubo de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Aplicación | Fuentes, semiconductor |
| El material | No2> 99,99% |
| Características | Buen aislamiento eléctrico |
| Transmisibilidad de la luz | > 92% |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| El material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| El material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| El material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1150℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1150℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1150℃ |
| Nombre de producto | Crisol de cristal de cuarzo |
|---|---|
| SiO2 | 99,99% |
| Temparature de trabajo | 1200℃ |
| Punto del derretimiento | 1750-1850℃ |
| Uso | Laboratorio, biología, médica |