Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Solicitud | Semiconductor, óptico |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Punzonado, corte, pulido |
Nombre del producto | barra de cristal de cuarzo |
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El material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Transimittance ligero | El 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
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Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
El material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
Nombre de producto | Vidrio de cuarzo redondo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Dureza | Morse 6,5 |
Temparature de trabajo | 1150℃ |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitencia ligera | el 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |
Tipo | Placa clara del cuarzo |
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Uso | Luz UV, óptica |
Grueso | 0.5-100m m |
Forma | Cuadrado |
Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencias |
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Nombre | instrumento de cuarzo personalizado de laboratorio de vidrio de proceso |
Material | silicio fundido |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Tolerancia al ácido | 30 veces más que la cerámica |
Material | EL SIO2>99.99% |
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Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Transmitencia ligera | >el 92% |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
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Material | EL SIO2>99.99% |
Densidad | 2,2 (g/cm3) |
Dureza | Morse 6,5 |
Temperatura de trabajo | 1100℃ |
Nombre del cuarzo | placa de cristal de cuarzo |
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Material | 99,99% |
Transmitencia ligera | 92% |
Densidad | 2.2g/cm3 |
Temparature de trabajo | 1100℃ |