| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Solicitud | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Punzonado, corte, pulido |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencia |
|---|---|
| Nombre | instrumento modificado para requisitos particulares laboratorio de cristal del cuarzo del proceso |
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100 ℃ |
| Tolerancia ácida | 30 veces que cerámica |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Uso | Luz UV, óptica |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblez, soldadura, perforando, corte |
| Palabra clave | Cristalería de laboratorio de ciencias |
|---|---|
| Nombre | instrumento de cuarzo personalizado de laboratorio de vidrio de proceso |
| Material | silicio fundido |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tolerancia al ácido | 30 veces más que la cerámica |
| Nombre del producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| El material | No2> 99,99% |
| Densidad | 2.2 g/cm3 |
| Transimittance ligero | El 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2,2 (g/cm3) |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Nombre de producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2,2 (g/cm3) |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temperatura de trabajo | 1100℃ |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |
| Nombre del producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SiO2> 99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | 92% |
| Dureza | Morse 6.5 |
| Nombre del producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| Material | SiO2> 99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | 92% |
| Dureza | Morse 6.5 |