| Material | EL SIO2>99.99% |
|---|---|
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | el 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Nombre del producto | capilar de la silicona fundida |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Identificación | 0,1-2 mm |
| Grueso de pared | 0.1-5m m |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| Nombre de producto | capilar de la silicona fundida |
|---|---|
| Material | EL SIO2>99.99% |
| Identificación | 0.1-2m m |
| grueso de pared | 0.1-5m m |
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| nombre | Disco del vidrio de cuarzo |
|---|---|
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nombre del producto | Placa de cristal de cuarzo |
|---|---|
| El material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | El 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Nombre | Disco del vidrio de cuarzo |
|---|---|
| Transmitencia ligera | >el 92% |
| densidad | 2.2g/cm3 |
| Temparature de trabajo | 1100℃ |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Tipo | Placa clara del cuarzo |
|---|---|
| Uso | Semiconductor, óptico |
| Grueso | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Proceso de servicio | Doblez, soldando con autógena, perforación, puliendo |
| Nombre | Plato modificado para requisitos particulares de alta calidad fundido del vidrio de cuarzo de la pla |
|---|---|
| Escribe | Placa clara del cuarzo |
| Solicitud | Semiconductor, óptico |
| espesor | 0.5-100m m |
| Forma | Cuadrado |
| Nombre del producto | barra de cristal de cuarzo |
|---|---|
| El material | EL SIO2>99.99% |
| Densidad | 2.2g/cm3 |
| Transimittance ligero | El 92% |
| Dureza | Morse 6,5 |
| Tipo | Placa de cuarzo transparente |
|---|---|
| Aplicación | Semiconductor, óptico |
| El grosor | 0.5 a 100 mm |
| Forma de las piezas | Cuadrado |
| Servicio de tratamiento | Golpear, cortar |