Placa de vidrio de cuarzo de sílice fundida óptica perforada por CNC de alta precisión con 99,99 % de contenido de SiO₂, punto de fusión de 1732 ℃ y temperatura de trabajo de 1100 ℃. Fabricación personalizada con servicios de punzonado/corte y muestras gratuitas disponibles para aplicaciones de semiconductores.
Tubo de vidrio de cuarzo de SiO₂ al 99,99% resistente a altas temperaturas personalizado para hornos, equipos semiconductores y reactores de laboratorio. Presenta una temperatura de trabajo de 1100 ℃, resistencia a la corrosión y procesamiento personalizado. Certificado ISO9001, CE, RoHS con muestras gratuitas disponibles.
Tubo de vidrio de cuarzo de gran diámetro personalizado con 99,99 % de pureza de SiO₂ para equipos de hornos de calefacción. Presenta una temperatura de trabajo de 1100 ℃, un punto de fusión de 1732 ℃, resistencia a la corrosión y tamaños personalizados de hasta 10000 mm de diámetro exterior. Muestras gratuitas disponibles para aplicaciones de semiconductores y hornos de alta temperatura.
Shengfan Quartz plate characteristic *Brand shengfanquartz *SIO2 99.99% *Density 2.2(g/cm³) *Degree of hardness moh’ scale 6.6 *Melting point 1732℃ * Working temperature 1100℃ *Annealing point 1180℃ *Softening point 1630℃ Setting Information Color Transparent Shape Circular / Round Standard JGS1...
High Temperature Resistant 1200° Clear Fused Silica Quartz Glass Wafer for Window Product Overview High purity 99.99% high temperature resistant, corrosion resistant quartz glass rectangle square sheet. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured ...
High Purity 99.99% High Temperature Resistant Corrosion Resistant Quartz Glass Plate High Purity 99.99% High Temperature Resistant Corrosion Resistant Quartz Glass Round Plate. Customized corrosion resistant and high temperature resistant quartz frosted plates manufactured by Shengfan Quartz. We ...
Tubo de ensayo de cuarzo de alta transmitancia de luz con 99,99 % de contenido de SiO₂, temperatura de trabajo de hasta 1100 ℃, punto de reblandecimiento de 1630 ℃. Ideal para semiconductores, hornos de alta temperatura y reactores de cuarzo de laboratorio. Admite muestras gratuitas y procesamiento personalizado.