Cuenco tibetano de cristal de cuarzo puro 99,99% hecho a mano, tamaño y diseño personalizables. Ideal para yoga, baños de sonido, equilibrio de chakras con frecuencias de 432Hz/440Hz. Admite logotipos y embalajes personalizados.
Placas de vidrio de cuarzo fundido personalizadas con 99,99 % de pureza de SiO₂, 92 % de transmitancia de luz y temperatura de trabajo de 1100 ℃. Disponible en superficies pulidas, varias formas y tamaños personalizados con una tolerancia de ±0,02 mm. Ideal para aplicaciones industriales de semiconductores, ópticas y de alta temperatura.
Tubos de vidrio de cuarzo de alta pureza al 99,99 % con diámetros personalizados de 1 a 1000 mm. Presenta un punto de fusión de 1732 ℃, una temperatura de trabajo de 1100 ℃ y servicios de corte. Ideal para semiconductores, hornos de alta temperatura y aplicaciones de laboratorio. Muestras gratuitas disponibles.
Placa de cuarzo resistente a altas temperaturas con una temperatura de trabajo de 1150 ℃, >92 % de transmitancia de luz y 99,99 % de pureza de SiO2. Disponible en espesores de 0,5 a 100 mm con opciones de fabricación personalizadas para aplicaciones de semiconductores, laboratorios y hornos.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Placa de vidrio de cuarzo transparente resistente a altas temperaturas con 99,99 % de contenido de SiO₂, punto de fusión de 1732 ℃, temperatura de trabajo de 1100 ℃. Procesamiento personalizado de punzonado/corte, muestras gratuitas disponibles. Ideal para aplicaciones de semiconductores.
Tubo roscado de cuarzo de alta precisión con contenido de SiO₂ del 99,99 %, temperatura de trabajo de hasta 1100 ℃, punto de fusión 1732 ℃. Resistente a altas temperaturas, resistente a la corrosión, ideal para investigación de laboratorio, semiconductores y aplicaciones de enseñanza universitaria.
Botella de vidrio de cuarzo de sílice fundida de alto pulido transparente para experimentos de laboratorio de química. Presenta un contenido de SiO₂ del 99,99 %, un punto de fusión de 1732 ℃, una temperatura de trabajo de 1100 ℃ y una dureza de 6,6. Ideal para investigación de laboratorio, procesos de semiconductores y aplicaciones de enseñanza universitaria.
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