Tubo de cuarzo transparente fundido de tamaño personalizado con pureza de SiO₂ del 99,99 %, temperatura de trabajo de hasta 1100 ℃, rango de diámetro exterior de 10-10000 mm. Ideal para semiconductores, hornos de alta temperatura y aplicaciones de laboratorio. Muestras gratuitas disponibles con servicios de procesamiento de punzonado/corte.
Placas de vidrio de cuarzo resistentes al calor con una temperatura de trabajo de 1150 ℃, >92 % de transmitancia de luz y 99,99 % de pureza de SiO2. Disponible en espesores de 0,5-100 mm con estándares JGS1/JGS2/JGS3. Opciones de fabricación personalizadas para hornos solares, laboratorios y aplicaciones industriales.
Placas de sílice fundida de alta pureza con 99,99 % de SiO2, >92 % de transmitancia de luz, punto de fusión de 1732 ℃ y temperatura de trabajo de 1150 ℃. Tamaños personalizados (1-800 mm de diámetro, 0,2-100 mm de espesor) con opciones de punzonado/corte. Estándares JGS, resistentes a la corrosión y duraderos a altas temperaturas para aplicaciones ópticas, láser y de semiconductores.
Tubos de cuarzo personalizados con 99,99 % de pureza de SiO2, resistencia a altas temperaturas de hasta 1450 °C, excelente resistencia a la corrosión ácida y certificaciones CE/RoHS/SGS. Disponible en tamaños personalizados con alta transmitancia y durabilidad.
Tubo de vidrio de cuarzo de alta temperatura con 99,99 % de pureza de SiO₂, temperatura de trabajo de hasta 1100 ℃, rango de diámetro exterior de 10-10000 mm. Ideal para aplicaciones de semiconductores, laboratorios y hornos industriales. Corte/punzonado personalizado disponible con muestras gratuitas.
Placas de vidrio de cuarzo transparente a los rayos UV con >99,99 % de pureza de SiO2, >92 % de transmitancia de luz y temperatura de trabajo de 1150 ℃. Disponible en espesores de 0,5-100 mm con estándares JGS1/JGS2/JGS3. Tamaños y formas personalizados fabricados según sus especificaciones para equipos láser y aplicaciones industriales.
Placas de cuarzo pulidas directamente de fábrica con 99,99 % de pureza de SiO2, temperatura de trabajo de 1150 ℃, >92 % de transmitancia de luz y 0,5-100 mm de espesor. Tamaños personalizados disponibles con estándares JGS, ideales para aplicaciones industriales, ópticas y de semiconductores que requieren alta resistencia al calor y durabilidad.
Botella de vidrio de cuarzo de sílice fundida de alto pulido transparente para experimentos de laboratorio de química. Presenta un contenido de SiO₂ del 99,99 %, un punto de fusión de 1732 ℃, una temperatura de trabajo de 1100 ℃ y una dureza de 6,6. Ideal para investigación de laboratorio, procesos de semiconductores y aplicaciones de enseñanza universitaria.
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